氯化氢

    技术再精湛的生产企业，再先进的生产设备，所得到的氯化氢气体也不可能达到100%的纯度，多少都会混有少许其他气体以及杂质。比如氯气，那么我们要想得到纯净的气体应怎样去除混有的氯气呢？
    下面介绍几种方法；通到四氯化碳等有机溶剂中洗气即可；可以通入溴化钠或溴化钾或碘化钠或碘化钾溶液里，让氯气置换出溴单质和碘单质。只要找所找的盐溶液里含有比氯的氧化性弱的非金属元素就行，但要注意，氯气置换出的单质不能是气体，这是为了防止再与氯化氢混合。氯气具有强氧化性，活性炭具有强还原性，二者会发生氧化还原反应而将氯气除去，而氯化氢气体不具有强氧化性，故此方法可行。最后氯化氢气体也要溶于水制盐酸。
    我们之所以除去氯化氢气体中混有的少许氯气的主要原因是因为工业上的尾气不能直接排放到大气中，以防氯气含量超过标准。有了这些去除氯化氢气体中氯气的方法我们就可以得到相对纯净的氯化氢气体了。
    氯化氢气体为强刺激性，不燃气体，溶水后有强烈腐蚀性。产品包装于高压专用钢瓶中，处于液态。专用钢瓶为钢质无缝气瓶，瓶内抛光处理。瓶阀为抗腐蚀不锈钢隔膜阀。钢瓶设计压力为12.5Mpa,工作压力约5-6Mpa。
    化学级氯化氢产品生产装置于1993年投产，经山东省科委鉴定，主要用于医药中间体、农药及精细化学品制造业。电子级(VLSI)氯化氢产品生产装置于2003年投产，经北京市科委鉴定，主要用于半导体器件生产中单晶硅片的气相抛光、外延基座腐蚀及硬质合金制造。5.0N电子级(VLSI)氯化氢产品分别经国家标准物质研究中心和信息产业部专用材料质量监督检验中心抽样检验，纯度大于99.999%，总杂质含量小于5ppm，产品性能指标与国 际品牌相当。5.0N电子级(VLSI)氯化氢产品经国内外多家半导体重点企业连续大量在单晶硅片气相抛光和外延基座腐蚀工艺中广泛使用，制得的器件产品质量与国际知名品牌相当。超纯氯化氢产品生产装置于2005年投产，目前处于试销阶段，主要用作标准物质和科学研究。